На Samsung Foundry Forum южнокорейский производитель сообщил о дальнейших достижениях и улучшениях в собственных техпроцессах. С 14LPU компания представила четвертое поколение 14-нм техпроцесса, следующее за 14LPE, 14LPP и 14LPC. Строго говоря, все четыре метода необязательно нужно рассматривать как более или менее совершенные, поскольку они просто предъявляют разные требования к производству.
Тем не менее, 14LPU все же можно рассматривать как более совершенный процесс, поскольку благодаря ему удается достигать большего выхода продукции при том же потреблении энергии и следовании тому же дизайну. Данный техпроцесс предназначен, в основном, для высокопроизводительных устройств и сегмента компьютерных вычислений. Однако до сих пор неизвестно, в каких именно продуктах можно будет встретить новые чипы.
Кроме того, Samsung представила третье поколение техпроцесса 10 нм. Кроме всего прочего, техпроцесс 10LPU позволяет уменьшить размер чипа по сравнению с процессами 10LPE и 10LPP. Это означает то, что 10LPU в настоящее время является самым выгодным 10-нм техпроцессом для производителя. Кроме того, по сравнению с 10LPP, технология 10LPU обеспечит более высокую производительность. К сожалению, южнокорейская компания не предоставила точной информации о размерах чипов, поэтому о потенциале 10LPU говорить пока рано.
В втором квартале 2017 года Samsung предоставит своим клиентам Process Design Kit (PDK) для 14LPU и 10LPU. С этого момента теоретически можно начать серийное производство чипов.
Кроме того, стала известна информация о планах на Samsung на технологию литографии у глубоком ультрафиолете EUV (Extreme Ultraviolet). Впервые общественности показали подложку, изготовленную при помощи EUV, с 7-нм чипами. Таким образом, компания продемонстрировала клиентам развитие собственных технологий и подчеркнула то, что прогресс в производстве чипов все еще возможен.