High-NA EUV: Intel о возможностях и рисках новой технологии

В декабре компания Intel получила от ASML первый EUV-сканер High-NA. Сейчас он находится на заводе Fab D1X в американском штате Орегон и будет смонтирован голландской компанией в ближайшие месяцы, чтобы в начале 2025 года Intel могла начать экспонировать на нем кристаллы по своим собственным техпроцессам. В течение следующего года планируется достичь наиболее важных точек тестирования, которые позволят начать массовое производство в 2026...

... читать далее