В декабре компания Intel получила от ASML первый EUV-сканер High-NA. Сейчас он находится на заводе Fab D1X в американском штате Орегон и будет смонтирован голландской компанией в ближайшие месяцы, чтобы в начале 2025 года Intel могла начать экспонировать на нем кристаллы по своим собственным техпроцессам. В течение следующего года планируется достичь наиболее важных точек тестирования, которые позволят начать массовое производство в 2026...
... читать далее
Показано с 1 по 1 из 1
Комбинированный просмотр
-
19.04.2024, 13:17 #1
- Регистрация
- 29.10.2019
- Сообщений
- 1,414
High-NA EUV: Intel о возможностях и рисках новой технологии