Производство полупроводников: ASML поставила 23 системы фотолитографии EUV

Опубликовано:

nanotube-chipASML - один из крупнейших в мире производителей оборудования для производства кристаллов. Современные машины используют технологию EUV для фотолитографии с помощью глубокого ультрафиолета. Например, TSMC использует данную технологию для выпуска новейших чипов N7+. Intel тоже заказала большое число систем и наверняка закажет еще больше, чтобы выпускать чипы по 7-нм технологии.

Как сообщает ASML, производителям чипов уже поставлены 23 новые системы EUV. Так что спрос на новейшие технологии производства полупроводников продолжает увеличивается. Среди потребителей называются Intel и Samsung, а также TSMC. Использование EUV позволяет производителям добиваться еще более тонких размеров структур. Что приводит как к увеличению производительности, так и к повышению эффективности энергопотребления.

Как указывает ASML, продажа 23 систем EUV привела к обороту в 5 млрд. евро. Но планы еще более грандиозные. В следующем году ожидается отгрузка еще 35 систем фотолитографии EUV, что приведет к дальнейшему увеличению продаж.

Однако технология EUV на данном этапе не используется для производства чипа целиком. Лишь отдельные слои подвергаются обработке глубоким ультрафиолетом. Но в будущем планируется перевести производство чипа целиком на EUV, что позволит выпускать более мощные и эффективные кристаллы. На данный момент это верно для мобильных процессоров и SoC, но EUV планируется использовать и для DRAM в будущем.