ASML опубликовала отчет за второй квартал 2025 года: выручка и прибыль остались на уровне предыдущего квартала. Компания заработала 7,7 млрд евро — столько же, сколько и в первом квартале, а чистая прибыль составила 2,3 млрд евро. В третьем квартале ASML ожидает аналогичные результаты — от 7,7 до 7,9 млрд евро.
Неопределенность вокруг таможенных пошлин, судя по всему, сдерживает производителей чипов, заказывающих у ASML оборудование для литографии. Тем не менее, за квартал компания получила новых заказов на сумму около 5,5 млрд евро — заметный рост по сравнению с 3,9 млрд евро в предыдущем периоде.
Ключевым направлением в ближайшие годы станет переход от EUV к High-NA EUV. Первые тестовые установки Twinscan EXE:5200 уже переданы в imec, Intel и, вероятно, TSMC. Теперь ASML начала поставки серийных производственных систем нового поколения — Twinscan EXE:5200B. Компания заявляет, что уже отгрузила первую такую установку. Система способна экспонировать более 175 кремниевых пластин в час при плотности энергии 50 мДж/см². Стоимость одного аппарата — около 400 млн евро.
В будущем линейка EXE:5000 будет дополнена более производительными версиями с увеличенной пропускной способностью, что позволит повысить общую эффективность производства.
Кроме запуска нового поколения литографических машин, ASML продолжает модернизировать уже работающие системы EUV и DUV. Так, модели NXE:3800E постепенно вытесняют старые NXE:3800B/C/D. Новые установки обеспечивают экспонирование до 220 пластин в час против 160 у предшественников — это значительное увеличение производительности. Поскольку оборудование EUV остается крайне дорогим, выгода от апгрейда напрямую зависит от роста производительности.
Если вас интересуют подробности о High-NA EUV, его преимуществах и ограничениях, рекомендуем ознакомиться с нашей отдельной статьей на эту тему.
Подписывайтесь на группу Hardwareluxx ВКонтакте и на наш канал в Telegram (@hardwareluxxrussia).