Все крупные производители чипов в настоящее время осваивают литографию в глубоком ультрафиолете или EUV. Последние несколько лет показали, что производство по данной технологии влечет за собой больше сложностей, чем ожидалось первоначально. Вместо перехода на 10-нм EUV, производители планируют сразу же изготавливать чипы с 8- или 7-нм структурой. Совсем недавно Samsung объявила о начале техпроцесса 7 LPP с использованием EUV в середине 2018 года. О трудностях, с которыми сталкиваются производители при переходе на EUV, мы уже писали некоторое время назад.
Теперь азиатские источники сообщают более точные данные об успехах компании Globalfoundries в области EUV. Главный инженер Гари Пэттон (Gary Patton) сообщил Digitimes о том, что выход годных чипов достиг 65%. Однако это очень далеко от предполагаемых 95%. Globalfoundries планирует использовать литографию в глубоком ультрафиолете для производства 7-нм кристаллов. Второе поколение процессоров Ryzen, а также готовящиеся GPU Navi будут производиться по техпроцессу FinFET. Однако сначала, весной 2018 года, планируется переход с 14 на 12 нм.
Но если сравнивать техпроцессы 14LP и 7LP, последний выигрывает за счет 40-процентоного увеличения производительности при том же энергопотреблении. Кроме того, новый техпроцесс позволит разместить в два раза больше транзисторов на той же площади. Однако прямое сравнение количества транзисторов и экономии площади чипа провести невозможно, потому что новые архитектуры будут радикально отличаться от предыдущих. Но до того, как мы увидим 7-нм процессоры и GPU в наших ПК, пройдет еще немало времени.
К началу 2018 года Globalfoundries планирует завершить строительство завода Fab11 в китайском городе Чэнду. Здесь производитель будет изготавливать при помощи различных технологий подложки диаметром 300 мм. В основном, предприятие будет производить продукцию для внутреннего рынка.