В прошлом году NVIDIA представила cuLitho, платформу для вычислительной литографии, призванную заменить кластеры CPU, ранее использовавшиеся в этой области, на GPU. В прошлом году анонс больше походил на декларацию о намерениях, но с интеграцией технологии в Synopsys Proteus, программное обеспечение для генерации масок экспонирования, проект станет реальностью и будет использоваться при производстве следующего поколения чипов.
Разработчики и производители чипов уже уделяют особое внимание поддержке искусственного интеллекта при разработке и компоновке кристаллов. По словам представителей компаний, использование ИИ при производстве масок позволяет создать практически идеальную инверсную маску или инверсное решение с учетом дифракции света. Затем обычными методами создается финальная маска, в итоге весь процесс оптической коррекции близости (Optical Proximity Correction, OPC) ускоряется в два раза.
TSMC и Synopsys будут сотрудничать на базе программного обеспечения генерации масок Proteus, что позволит ускорить их производство.
Будет использоваться и оборудование от NVIDIA. Получается, что ускорители NVIDIA будут вовлечены в создание новых ускорителей NVIDIA – круг замкнулся. 350 ускорителей H100 способны заменить кластер CPU с 40.000 процессоров. В будущем NVIDIA cuLitho также будет поддерживать ускорители Blackwell. Ожидается, что это приведет к дальнейшему увеличению вычислительной производительности, сокращению циклов разработки масок. Конечно, качество экспонирования тоже возрастет, поскольку маски будут более точными.
TSMC планирует использовать cuLitho в производстве: «мы внедряем NVIDIA cuLitho в производство TSMC и используем эту технологию вычислительной литографии для дальнейшего масштабирования производства полупроводников».
Подписывайтесь на группу Hardwareluxx ВКонтакте и на наш канал в Telegram (@hardwareluxxrussia).